2020 年 10 月 22 日、ジェトロ北京事務所と中華商標協会は、物理会合とオンラインの形式で第2回中日商標制度シンポジウムを共催した。政府と業界から600人近くの代表が参加した。
会議では、日本特許庁商標課の高野和行課長から、日本商標制度と商標審査の最新状況をテーマにし、日本商標の出願状況、審査動向、商標法改正及び審査基準等の内容を紹介した。また、中国商標局の宋玲玲氏は、中国商標法改正後の商標審査実務の最新状況について演説した。
特に、《中国商標法》第 4 条の新設により、商標審査段階で「悪意商標出願」を強力に阻止する法律根拠について詳しく説明した。宋玲玲氏の発言により、「使用を目的としない」の判断基準の一つは、「実際の商標使用ニーズを著しく超えること」であり、「悪意」の定義とは、「不正当な利益を獲得する目的」としている。聴衆者たちが興味津々だったようである。
その他に、日本特許庁商標制度企画室の竹内耕平氏（日本における悪意の商標出願対策について）、中国商標局の陳輝氏（法改正後の商標審判実務について）、北京市知識産権法院裁判官の周麗婷氏（改正後の商標法に適用した拒絶査定不服審判案例について）もぞれぞれ演説した。
（出典：中華商標協会）