経済産業省は、「特許法等の一部を改正する法律案」が閣議決定され、本日、現在開会中の第198回国会（通常国会）に提出される予定と発表した。
改正案の趣旨は、デジタル革命により業種の垣根が崩れ、オープンイノベーションが進む中、中小・ベンチャー企業等が優れた技術を活かして飛躍するチャンスが拡大するとともに、優良な顧客体験が競争力の源泉となってきており、このような変化を踏まえて、特許等の権利によって、紛争が起きても、大切な技術等を十分に守れるよう、産業財産権に関する訴訟制度を改善するとともに、デジタル技術を活用したデザインの保護や、ブランド構築等のため、意匠制度等を強化することにある。
主な改正点は以下の通り；
＊ 商標法第31条を改正し、公益団体等（自治体、大学等）が自身を表示する著名な商標について通常使用権のライセンスを認め、ブランド化の促進を図る。
＊ 意匠法の一部を改正し物品に記録・表示されていない画像や、建築物の外観・内装のデザインを、新たに意匠法の保護対象とする。
＊ 意匠法の一部を改正し、取り締まりを回避する目的で侵害品を構成部品に分割して製造・輸入等する行為も取り締まれるようにする。
＊ 意匠権の存続期間を「登録日から20年」から「出願日から25年」にする。
＊ 特許法の一部を改正し、損害賠償額算定方法の見直す。本改正については、実用新案法、意匠法及び商標法において同旨の改正を実施する。
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