10月26日から28日に、日米欧中韓による商標五庁（TM5）年次会合が米国ホストによりテレビ会議形式で開催され、日本国特許庁（JPO）からは西垣審査業務部長等が出席した。
本会合では、各庁におけるCOVID-19の影響とその対応や、増加傾向にある出願に関する情報交換と15の協力プロジェクトなどについて、成果を含む進捗状況及び今後の進め方に関する活発な議論を行った。
JPOが主導する「悪意の商標プロジェクト」では、悪意の商標出願が世界的な問題となっていることを踏まえ、TM5以外をこのプロジェクトに招待することなどに合意し、「イメージサーチプロジェクト」では、プロジェクトの対象を審査の効率化に繋がるITシステム全般に拡大し、今後の情報交換のテーマをAI等の最新技術、テレワークなどに設定し、来夏開催予定の専門家会合に向けたスケジュールについて合意し、EUIPOとJPOの共同プロジェクト「ユーザー参画プロジェクト」では、国際商標協会（INTA）と連携して行うジョイントワークショップを開催し、次回のジョイントワークショップのテーマを「あらかじめ拒絶理由を回避する出願方法」とすることで合意した。
JPOは、TM5やその他の知財庁との協力をさらに進め、日本企業の知財が海外で適切に保護、活用しやすい環境の実現を目指すとしている。
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