2021-12-08

中国:新しい商標審査・審判のガイドライン - SMD Country Index

2021年11月22日、中国国家知識産権局(CNIPA)は、「Guidelines for Trademark Examination and Trial :商標審査・審判に関するガイドライン」を発表した。このガイドラインは、悪意のある出願を特定するための基準を定めた中国商標法第4条が解説されている。本ガイドラインは、2022年1月1日に発効する。

この新しいガイドラインと、CNIPAが2021年3月に発表した「悪意の商標不法取得に対抗するための特別行動計画」などの施策は、中国における商標の不法取得をさらに減少させることを目的としている。
Source: www.slwip.com

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本文は こちら (New Guidelines for Trademark Examination and Trial)