2026年6月15日、韓国ソウルにおいて「第21回日韓商標専門家会合」が開催された。本会合は、日本国特許庁と韓国特許庁の商標分野における実務者レベルでの国際協力を深め、両国の商標制度の発展を図る目的で定期的に実施されているものである。
今回の会合における主要な議題の一つは、商標審査分野における「人工知能（AI）の活用」で、急速に進化するデジタル技術を背景に、両国におけるAIシステムを用いた商標審査の現状や、効率化に向けた今後の発展方向、具体的な課題について活発な意見交換が行われた。
近年、商標分野においてもAIの導入や国際的な連携拡大が進んでおり、両国も最新技術の動向を共有しながら、出願人や権利者にとってより円滑で信頼性の高い商標保護環境を整備するため、緊密な協力関係を維持していく方針を示している。